
国家知识产权局信息显示,深圳云芯晨半导体科技有限公司取得一项名为“一种化合物半导体薄膜共振腔体结构”的专利,授权公告号CN224216164U,申请日期为2025年7月。
专利摘要显示,本实用新型公开了一种化合物半导体薄膜共振腔体结构,包括锗晶圆衬底,所述锗晶圆衬底的顶面开设有多个阵列分布的薄膜共振腔体,所述薄膜共振腔体通过光刻工艺在锗晶圆衬底顶面开设形成,每个所述薄膜共振腔体的内部靠近中部均设置有氧化铝反射镀膜层,所述氧化铝反射镀膜层的左右边侧利用光刻技术分别设有高60μm、宽500μm的蓝宝石层高脚,所述蓝宝石层高脚与氧化铝反射镀膜层为一体结构并通过MOCVD技术选择性生长形成,该结构通过薄膜共振腔体微型化设计与阵列分布满足集成化需求,MOCVD一体化工艺减少组装误差,避免传统环氧树脂粘贴的界面分层问题,实现了小型化、高灵敏度与高可靠性的统一,克服声压响应灵敏度不足的问题。
天眼查资料显示,深圳云芯晨半导体科技有限公司,成立于2022年,位于深圳市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析,深圳云芯晨半导体科技有限公司拥有行政许可6个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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